产品概述：
1200度CVD管式炉由管式炉+真空系统+供气系统组成
，温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。
PT-T1200管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、节能等优点。
适用范围：
1200度CVD管式炉是一种特殊的CVD系统，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。