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江西回收含镓废料,快速上门,现场交易

价格:面议 2024-11-23 02:40:01 118次浏览

ITO靶材的制备通常采用物相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)等方法。PVD法通过溅射技术将铟和锡等材料沉积在基材上,形成ITO薄膜。CVD法则是通过气相反应在基材表面生成ITO薄膜。这两种方法都能够生产高质量、均匀的ITO薄膜,但PVD法更为常见。

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